Данные печи предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром до100 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства. Загрузка подложек в рабочую камеру печей линейки RTP производится вручную. Печи легко управляемы и просты в техобслуживании. Две программируемые газовые линии с расходомерами могут использовать два различных газа, при подключении вакуумной помпы процесс оплавления можно проводить в вакууме. Основной особенностью печей является возможность быстрого нагрева (охлаждения) до 150 К/сек и точный контроль температуры.
Отличительные особенности:
- Быстрый нагрев (охлаждение)
- Точный контроль температуры
- До 4 линий подачи газа с регуляторами расхода
- Мониторинг и чтение данных процесса
- Нагрев с помощью инфракрасных ламп
- Регулятор массового расхода азота (5 литров в минуту)
- Возможность создания в камере вакуума до 10-6 мбар
- Температура нагрева до 1200°C
- Сенсорный экран 7"
- Программируемые профили температуры
- Работа в атмосфере инертных газов, кислорода, водорода, форминг газа
Области применения:
- Имплантация/ отжиг за счёт контактного нагрева
- RTP, RTA, RTO, RTN
- Легирование SiAu, SiAl, SiMo
- Работа с диэлектриками с пониженной диэлектрической проницаемостью
- Кристаллизация и уплотнение поверхности
- Разработка прототипов
- Контроль качества
- Обжиг медной и резистивной пасты
Опции:
- Дополнительная линия подачи газа с регулятором массового расхода (максимум 3 единицы)
- Анализатор влажности для измерения остаточной влажности в камере
- Анализатор кислорода для измерения кислорода оставшегося в камере (не может быть установлена вместе с опцией водорода)
- Дополнительная термопара (максимум 2 единицы)
- Вакуумная система до 3 мбар, состоит из датчика и предохранительного клапана, помпа в комплект не входит
- Вакуумная система до 10-3 мбар, состоит из датчика и предохранительного клапана, помпа в комплект не входит
- Соединительные трубки из VCR
- Настольная модель с электрическим шкафом и встроенным универсальным теплообменником (UHE)
- Дополнительная камера 100 мм с возможностью одновременного использования 2 камер
- Графитная плита или токоприемник (опционально покрытие карбидом кремния)
- Мембранная помпа для вакуума до 3 мбар
- Вращающаяся лопастная помпа для вакуума до 10-3 мбар с масляным фильтром
- Модуль водорода: позволяет использовать 100% водород, состоит из линии подачи газа и регулятора массового расхода
- Предохранительный механизм для предотвращения бесконтрольного выделения водорода
- Замкнутая водная система охлаждения
- Адаптер для пластин диаметром 50 мм
- Адаптер для пластин диаметром 75 мм
Технические характеристики:
Макс. размер пластин 100 x 100 мм
Материал камеры Кварцевое стекло
Высота камеры 18 мм
Система загрузки подложек Фронтальная загрузка, поддон из кварцевого стекла
Макс. давление вакуума До 10-6 милибар
Размеры рабочей камеры 134 x 169 x 18 мм
Макс. Температура 1200 ºС
Нагрев 18 ИК ламп (20 кВт)
Зоны нагрева Верхняя и нижняя (программируемые)
Скорость нагрева До 150 К/сек
Скорость охлаждения с 1200ºС до 400ºС: 200К/мин, с 400ºС до 100ºС: 30К/мин,
Подача газа 1 газовая линия (опционально до 4)
Используемые газы Азот, кислород, N2H2, аргон
Давление газов 2-6 бар, макс. расход 10 л/мин
Метод охлаждения Вода: 2л/мин., 2-6 бар
Эл. питание 3х32 А, 230 В, 3 фазы
Габаритные размеры 504 x 505 x 570 мм
Вес 78 кг
